Проект под названием “Промышленная литография с использованием жесткого ультрафиолета”(EUVL) удостоился медали “За выдающиеся достижения в области внедрения технологий”(Excellency in Technology Transfer) Федерального консорциума лабораторий по передачетехнологий. Почетная награда выдается толь
о тем организациям, которые успешновнедрили свои технологии в промышленности. Данная разработка позволит серийнопроизводить процессоры, работающие в десятки раз быстрее, чем самые мощные изсуществующих сегодня.
Проект EUVL позволит развернуть как раз к этому году массовое серийное производствомикроэлектронных устройств по новой технологии, использующей излучение с длинойволны в десять раз меньше, чем в современных литографических процессах.
Для работы с излучением, длина волны которого составляет всего 134 Ангстрема,потребовалось изменить оптическую систему, отказавшись от фокусировки излученияс помощью линз и перейдя на использование отражающей оптики (зеркал со специальнымпокрытием).
Первый полномасштабный прототип установки для промышленной литографии с использованиемжесткого ультрафиолета был создан еще в 2001 году. Было показано, что с помощьюжесткого ультрафиолетового излучения возможно создание процессоров, работающихв 10 раз быстрее существующих и имеющих в десять раз больше транзисторов на единицеплощади, и увеличение емкости микросхем памяти в 40 раз.